ਟ੍ਰਾਂਸਫਾਰਮਰ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਪਾਰਟਸ ਸੀਐਨਸੀ ਇੰਸੂਲੇਟਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਸੈਂਟਰ

ਛੋਟਾ ਵਰਣਨ:

ਸੀਐਨਸੀ ਇੰਸੂਲੇਟਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਸੈਂਟਰ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਟ੍ਰਾਂਸਫਾਰਮਰ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਐਂਡ ਰਿੰਗ, ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਪਲੇਟ ਅਤੇ ਵਾਇਰ ਕਲੈਂਪ ਵਰਗੇ ਵੱਡੇ ਇੰਸੂਲੇਟਿੰਗ ਹਿੱਸਿਆਂ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਲਈ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਐਂਡ ਰਿੰਗ ਦੇ ਅੰਦਰੂਨੀ ਅਤੇ ਬਾਹਰੀ ਚੱਕਰਾਂ, ਐਂਡ ਰਿੰਗ 'ਤੇ ਗੋਲਾਕਾਰ ਗਰੂਵ ਅਤੇ ਲੀਨੀਅਰ ਗਰੂਵ, ਨਾਲ ਹੀ ਡ੍ਰਿਲ ਹੋਲ ਅਤੇ ਸਥਾਨਕ ਪਲੇਨ ਮਸ਼ੀਨਿੰਗ ਨੂੰ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ।


ਉਤਪਾਦ ਵੇਰਵਾ

ਟ੍ਰਾਂਸਫਾਰਮਰ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਪਾਰਟਸ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਸੈਂਟਰ ਪ੍ਰੋਗਰਾਮ ਸਥਾਪਤ ਕਰਕੇ, ਕਿਸੇ ਵੀ ਦਿੱਤੇ ਗਏ ਆਕਾਰ ਦੇ ਗ੍ਰਾਫ ਨੂੰ ਲੈਮੀਨੇਟਡ ਲੱਕੜ ਜਾਂ ਲੈਮੀਨੇਟਡ ਗੱਤੇ 'ਤੇ ਕੱਟਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਐਂਡ ਰਿੰਗ, ਡ੍ਰਿਲ ਹੋਲ ਅਤੇ ਸਥਾਨਕ ਪਲੇਨ ਮਸ਼ੀਨਿੰਗ 'ਤੇ ਗੋਲਾਕਾਰ ਗਰੂਵ ਅਤੇ ਲੀਨੀਅਰ ਗਰੂਵ ਨੂੰ ਵੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਇਸ ਉਪਕਰਣ ਦੇ ਡਿਜ਼ਾਈਨ ਅਤੇ ਨਿਰਮਾਣ ਵਿੱਚ ਟ੍ਰਾਂਸਫਾਰਮਰ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਉਦਯੋਗ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਵਿਚਾਰਿਆ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਧੂੜ ਕੱਢਣ ਅਤੇ ਧਾਤ ਦੇ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ ਨੂੰ ਰੋਕਣ ਵਿੱਚ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਸੁਰੱਖਿਆ ਕੀਤੀ ਜਾਣੀ ਚਾਹੀਦੀ ਹੈ।

ਟ੍ਰਾਂਸਫਾਰਮਰ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਪਾਰਟਸ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਸੈਂਟਰ ਲਈ ਤਕਨੀਕੀ ਮਾਪਦੰਡ

ਪ੍ਰਭਾਵੀ ਸਟ੍ਰੋਕ (ਮਿਲੀਮੀਟਰ)

ਪ੍ਰਭਾਵੀ ਸਟ੍ਰੋਕ (ਮਿਲੀਮੀਟਰ)

1500*3000

3300*3300

ਵੱਧ ਤੋਂ ਵੱਧ ਮਸ਼ੀਨਿੰਗ ਮੋਟਾਈ (ਮਿਲੀਮੀਟਰ)

150

260

XY ਤੋਂ ਸਭ ਤੋਂ ਤੇਜ਼ ਖਾਲੀ ਲਾਈਨ ਗਤੀ (ਮੀਟਰ/ਮਿੰਟ)

12

20

XY ਤੋਂ ਸਭ ਤੋਂ ਤੇਜ਼ ਖਾਲੀ ਲਾਈਨ ਗਤੀ (ਮੀਟਰ/ਮਿੰਟ)

XY ਤੋਂ ਸਭ ਤੋਂ ਤੇਜ਼ ਖਾਲੀ ਲਾਈਨ ਗਤੀ (ਮੀਟਰ/ਮਿੰਟ)

XY ਤੋਂ ਸਭ ਤੋਂ ਤੇਜ਼ ਖਾਲੀ ਲਾਈਨ ਗਤੀ (ਮੀਟਰ/ਮਿੰਟ)

3

8

XY ਦਿਸ਼ਾ ਸਥਿਤੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ (ਮਿਲੀਮੀਟਰ)

XY ਦਿਸ਼ਾ ਸਥਿਤੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ (ਮਿਲੀਮੀਟਰ)

0.2

0.2

Z-ਦਿਸ਼ਾ ਸਥਿਤੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ (mm)

0.05

0.05

ਸਪਿੰਡਲ ਸਪੀਡ r/ਮਿੰਟ

0~24000

0~18000

ਸਪਿੰਡਲ ਪਾਵਰ KW

6

11

ਵਰਕਬੈਂਚ

ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਟੀ-ਸਲਾਟ ਜਾਂ ਵੈਕਿਊਮ ਸੋਖਣ

ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਟੀ-ਸਲਾਟ ਜਾਂ ਵੈਕਿਊਮ ਸੋਖਣ


  • ਪਿਛਲਾ:
  • ਅਗਲਾ:

  • ਆਪਣਾ ਸੁਨੇਹਾ ਇੱਥੇ ਲਿਖੋ ਅਤੇ ਸਾਨੂੰ ਭੇਜੋ।